HB成膜とHBアニール、HBスチーム改質の
デモンストレイションのメニュー

弊社ではHBデモンストレイションを承っております。
ご希望の条件がありましたらお気軽にご相談ください。
以下のお問合せボタンから、ご連絡いただけます。

HB-CVDは基板を加熱しないで、成膜します。

1.基板を選べます。
  シリコンウエハ、ガラスなどのセラミクス基板、プラスチクス基板、フィル
  ムなど、筒状の容器やネジ、複雑な構造物なども扱えます。

2.大きさは30cm□まで扱います。連続フィルムはご相談ください。

3.成膜種は以下の化合物から選べます。
  組成や不純物条件についてはご相談ください。その他条件についてもご相談
  ください。
 ・酸化金属(Al2O3, SiO2, ZnO, TiO2など)
 ・窒化金属(AlN, SiN, TiN, GaNなど)
 ・カーボン膜(CNT, グラフェンなど)
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基板表面や基板上の膜をアニールします。

1.基板を選べます。
  シリコンウエハ、ガラスなどのセラミクス基板、プラスチクス基板、
  フィルムなど
  スキャン速度 0.5mm/s ~

2.大きさは 5cm□まで扱います。

3.HBガスの温度は100~900℃の範囲で選べます。

4.ガスの種類は窒素、空気、水などを選べます。
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HB過熱スチームで加熱します。
有機物の改質や無酸素乾燥、滅菌、バイオマス発電や燃料電池のための水素生成ができます。

1.改質する材料
  木質などのバイオマス材料、メタンなどの炭化水素ガス、肉類など  

2.過熱スチーム
  温度は100~900℃が可能です。スチーム流量は70SLMまでが目安です。
  温度に依存して流量は拡大できます。

3.分析
  ガスクロマトグラフィーの設備があります。その場の分析が可能です。

4.実施例
  メタンの過熱スチームで水素を発生させます。
  肉類は無酸素でスチームすると究極の柔らか肉に改質します。
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